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核心技术technologies
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  • 沉积技术最近的一个重要趋势是现有工艺不断向更高的离子辅助方向扩展,从而对薄膜性能产生有益的...
    沉积技术最近的一个重要趋势是现有工艺不断向更高的离子辅助方向扩展,从而...
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  • 材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满足更好性能的特定需求...
    材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满...
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  • 在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相沉积(PVD)和化学...
    在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相...
    在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相...
  • 本文讲述了低温直接等离子体增强化学气相沉积氧化物与热氧化物的结合。PECVD氧化物在350℃...
    本文讲述了低温直接等离子体增强化学气相沉积氧化物与热氧化物的结合。PEC...
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  • 三维集成电路技术已经发展成为半导体行业的新兴技术。硅片减薄是三维集成电路和硅通孔形成的关键技...
    三维集成电路技术已经发展成为半导体行业的新兴技术。硅片减薄是三维集成电路...
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  • 在微系统技术中,通常由结构化或普通硅或其他晶片组成的复杂结构必须结合成一个机械稳定的结构。...
    在微系统技术中,通常由结构化或普通硅或其他晶片组成的复杂结构必须结合成...
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  • 沉积技术最近的一个重要趋势是现有工艺不断向更高的离子辅助方向扩展,从而对薄膜性能产生有益...
    沉积技术最近的一个重要趋势是现有工艺不断向更高的离子辅助方向扩展,从而...
    沉积技术最近的一个重要趋势是现有工艺不断向更高的离子辅助方向扩展,从而对薄膜性能产生有益的影响。如今,包括激光...
  • 材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满足更好性能的特定需...
    材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满...
    材料的表面性质会影响材料使用时的效率和性能。修改和调整这些表面特性以满足更好性能的特定需求是可行的,并且已经广...
  • 在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相沉积(PVD)和化...
    在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相...
    在过去的几十年中,形成薄膜材料的方法显著增加。一般来说,薄膜是由物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(化学气相沉...
  • 本文讲述了低温直接等离子体增强化学气相沉积氧化物与热氧化物的结合。PECVD氧化物在350...
    本文讲述了低温直接等离子体增强化学气相沉积氧化物与热氧化物的结合。PEC...
    本文讲述了低温直接等离子体增强化学气相沉积氧化物与热氧化物的结合。PECVD氧化物在350℃下致密化,并进行化学...
  • 三维集成电路技术已经发展成为半导体行业的新兴技术。硅片减薄是三维集成电路和硅通孔形成的关键...
    三维集成电路技术已经发展成为半导体行业的新兴技术。硅片减薄是三维集成电路...
    三维集成电路技术已经发展成为半导体行业的新兴技术。硅片减薄是三维集成电路和硅通孔形成的关键技术之一。本文报道了三...
  • 在微系统技术中,通常由结构化或普通硅或其他晶片组成的复杂结构必须结合成一个机械稳定的结构...
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    在微系统技术中,通常由结构化或普通硅或其他晶片组成的复杂结构必须结合成一个机械稳定的结构。在许多情况下,晶片键...
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