炬丰科技
JUFENG DATA
400-8798-096
描述
24小时服务热线:
泛半导体湿法工艺设备共享平台
湿法设备工艺培训
湿法设备工艺培训
湿法工艺图片
半导体湿法工艺
湿法工艺一般采bai用溶du液、固液混合物zhi、气液混合物等原料进行反应,制备目标物质的过程。它具有粉尘污染小、温度低、有利于操作工人的身体健康。但是湿法工艺产生大量的废水废液,如果不处理,会造成严重的水污染。
细分专家免费入驻
专家
专家
产品研发
产品研发
配件
配件
技术交流
  • 无论如何,应注意制造商建议的特定光致抗蚀剂的软烘烤时间和温度应始终是开发光刻工艺的起点,并且重要的是要记住过高的软烘烤温度通常高于115C会降低或甚至可以破坏线型酚醛清漆DNQ型光致抗蚀剂系统中的DN...
    无论如何,应注意制造商建议的特定光致抗蚀剂的软烘烤时间和温度应始终是开发...
    无论如何,应注意制造商建议的特定光致抗蚀剂的软烘烤时间和温度应始终是开发...
  • 这改变了膜的溶解度,以便通过将晶片暴露于光来图案化晶片
    这改变了膜的溶解度,以便通过将晶片暴露于光来图案化晶片
    这改变了膜的溶解度,以便通过将晶片暴露于光来图案化晶片
  • 乙酸,也称为乙醇酸或甲烷羧酸,在许多工业过程中用于制造基材
    乙酸,也称为乙醇酸或甲烷羧酸,在许多工业过程中用于制造基材
    乙酸,也称为乙醇酸或甲烷羧酸,在许多工业过程中用于制造基材
  • 薄膜晶体管LCD的构造中使用的晶体管通常由晶体硅晶片制成,该晶体硅晶片与制造太阳能电池板的材料相同
    薄膜晶体管LCD的构造中使用的晶体管通常由晶体硅晶片制成,该晶体硅晶片与...
    薄膜晶体管LCD的构造中使用的晶体管通常由晶体硅晶片制成,该晶体硅晶片与...
培训图片