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湿法腐蚀工艺参数
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  • 光刻技术是制造半导体器件的一种基本工艺。光刻工艺包括将图案从光掩模转移到...
    光刻技术是制造半导体器件的一种基本工艺。光刻工艺包括将图案从光掩模转移到...
    光刻技术是制造半导体器件的一种基本工艺。光刻工艺包括将图案从光掩模转移到硅晶片表面所涉及的所有步骤。如果污染物粘附在光掩膜表面,...

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  • 光伏器件通常利用中程带隙半导体来吸收太阳光谱的可见范围。然而,这样会在红...
    光伏器件通常利用中程带隙半导体来吸收太阳光谱的可见范围。然而,这样会在红...
    光伏器件通常利用中程带隙半导体来吸收太阳光谱的可见范围。然而,这样会在红外(红外)和近红外(NIR)范围内损失大量的能量。适合红...

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  • 本文我们提出了湿化学硅晶片变薄过程,并比较了各种晶片变薄工艺,对比研究结...
    本文我们提出了湿化学硅晶片变薄过程,并比较了各种晶片变薄工艺,对比研究结...
    本文我们提出了湿化学硅晶片变薄过程,并比较了各种晶片变薄工艺,对比研究结果表明,湿化学晶薄工艺具有很高的断裂应力/能量,表明湿化...

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  • 本文报道了对SC1(nh4OH:H202:H20)溶液的研究,可用于抗颗...
    本文报道了对SC1(nh4OH:H202:H20)溶液的研究,可用于抗颗...
    本文报道了对SC1(nh4OH:H202:H20)溶液的研究,可用于抗颗粒去除和选择性湿蚀刻某些薄膜。用于以下测试的SC1溶液的...

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  • 对在SPEL中使用不同的浸没方法清洗的硅晶片进行了比较研究。所生产的盈余...
    对在SPEL中使用不同的浸没方法清洗的硅晶片进行了比较研究。所生产的盈余...
    对在SPEL中使用不同的浸没方法清洗的硅晶片进行了比较研究。所生产的盈余已经通过各种方法进行了评估。使用这些清洗后获得的结果被报...

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  • RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术,由于其高可靠性,30多年来一直被...
    RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术,由于其高可靠性,30多年来一直被...
    RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术,由于其高可靠性,30多年来一直被用于半导体和平板显示器(FPD)领域的清洗。其基础是以除...

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  • III-V多结太阳能电池的微制造周期包括几个技术步骤,最后以一个晶圆切...
    III-V多结太阳能电池的微制造周期包括几个技术步骤,最后以一个晶圆切...
    III-V多结太阳能电池的微制造周期包括几个技术步骤,最后以一个晶圆切割步骤来分离单个电池。这一步引入了作为电荷捕获中心的连接...

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  • 微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指...
    微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指...
    微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指的是在制造时从晶片表面去除层。这是一个非常重要的过程,每...

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  • 表面纹理对减少光反射和改善硅衬底内的光约束具有重要作用,从而提高太阳能电...
    表面纹理对减少光反射和改善硅衬底内的光约束具有重要作用,从而提高太阳能电...
    表面纹理对减少光反射和改善硅衬底内的光约束具有重要作用,从而提高太阳能电池的效率,研究了不同厚度碳硅晶片的湿各向异性纹理和随后的...

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  • 本研究采用各向同性湿化学蚀刻法改变高频蚀刻剂浓度,研究了HF/HNO3/...
    本研究采用各向同性湿化学蚀刻法改变高频蚀刻剂浓度,研究了HF/HNO3/...
    本研究采用各向同性湿化学蚀刻法改变高频蚀刻剂浓度,研究了HF/HNO3/甲基羧基混合溶液中蚀刻时间对硅片的影响。研究的蚀刻时间为...

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  • 随着半导体工业的发展,多层处理变得越来越复杂,清洗溶液和蚀刻化学物质在提...
    随着半导体工业的发展,多层处理变得越来越复杂,清洗溶液和蚀刻化学物质在提...
    随着半导体工业的发展,多层处理变得越来越复杂,清洗溶液和蚀刻化学物质在提高收率和减少缺陷方面的作用变得越来越重要。本文证明了具有...

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  • 在本文中,我们提出了一种简单的低成本的湿式化学蚀刻工艺,它促进了银金属团...
    在本文中,我们提出了一种简单的低成本的湿式化学蚀刻工艺,它促进了银金属团...
    在本文中,我们提出了一种简单的低成本的湿式化学蚀刻工艺,它促进了银金属团簇的存在,并应用于n型硅和商用硅太阳能电池。样品处理分两...

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  • 本文的目的是寻找改进玻璃蚀刻剂的湿式蚀刻技术的方法,分析了玻璃湿蚀工艺的...
    本文的目的是寻找改进玻璃蚀刻剂的湿式蚀刻技术的方法,分析了玻璃湿蚀工艺的...
    本文的目的是寻找改进玻璃蚀刻剂的湿式蚀刻技术的方法,分析了玻璃湿蚀工艺的基本要素。为此,提出了一种改进的玻璃深湿蚀刻技术。用Cr...

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  • 半导体工艺资料,半导体清洗工艺,湿法腐蚀工艺,氮化硅的湿法腐蚀,湿法腐蚀...
    半导体工艺资料,半导体清洗工艺,湿法腐蚀工艺,氮化硅的湿法腐蚀,湿法腐蚀...
    半导体工艺资料,半导体清洗工艺,湿法腐蚀工艺,氮化硅的湿法腐蚀,湿法腐蚀工艺参数,炬丰科技,本发明涉及在晶片上涂布显影液的步骤,...

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  • 光子学与电子学的紧密结合被认为是进一步提高信息传输系统的带宽、速度和能量...
    光子学与电子学的紧密结合被认为是进一步提高信息传输系统的带宽、速度和能量...
    光子学与电子学的紧密结合被认为是进一步提高信息传输系统的带宽、速度和能量效率的关键。在这里,我们回顾了一种基于晶圆级聚合物键合的...

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湿法刻蚀工艺
半导体清洗工艺
用光刻方法制成的微图形,只给出了电路的行貌,并不是真正的器件结构。因此需将光刻胶上的微图形转移到胶下面的各层材料上去,这个工艺叫做刻蚀。通常是用光刻工艺形成的光刻胶作掩膜对下层材料进行腐蚀,去掉不要的部分,保留需要的部分。